サブミクロン解像度の電極や応用デバイスを実現するR2R印刷技術の紹介
- ilijastefanov6
- Feb 25, 2023
- 2 min read
講演者 阿部 正幸｜会社紹介 旭化成｜開催時期：2022年3月9日～10日｜プレゼンテーション全文
プリンテッドエレクトロニクスデバイスの高性能化と実用化のためには、サブミクロンの解像度で電極を工業的に形成できる印刷技術が重要である。当社は、量産性と高解像度を両立させるため、円筒状プレートのパターニング技術として、電子ビームリソグラフィー技術を独自に開発した。また、平均凝集径が数十ナノメートル以下の金属ナノインクや、R2R印刷プロセス・装置も独自に開発した。これらの技術と、これらの技術を応用して製作したハイブリッド型透明RFIDタグを紹介する。
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また、2023年10月17日～18日にベルリンで開催される「Reshaping the Future of Electronics」にフォーカスした当社のフラッグシップイベントもお見逃しなく。このイベントには、世界中から550～600名の参加者が集まり、素晴らしい雰囲気とダイナミックな展示フロアを提供します。
詳しくは
https://www.techblick.com/electronicsreshaped
前回のイベントに関するフィードバックはこちらをご覧ください。 https://www.techblick.com/events-agenda
[This is automatically translated from English]