高粘度メタライゼーションペーストをSiソーラーウェハー上に20um以下の解像度でデジタルプリント？

Si太陽電池のメタライゼーション技術は、スクリーン印刷が標準である。現在、線幅35μmの印刷が可能で、将来的には線幅20μmまで進化させることが期待されています。182×182mm2のウェーハの生産性は、現在、1時間当たり約7000枚で、代替技術に対する業界標準となっています。

過去には、インクジェット印刷が代替技術を提供しようとしましたが、低アスペクト比の低粘度ナノ粒子（高価な）インクしか扱うことができませんでした。また、シード層の印刷技術としてインクジェットが提案されましたが、PVメタライゼーションのツールとしてのインクジェットは、10年以上の開発期間にもかかわらず、まだ大きな普及には至っていません。

フラウンホーファーISEは、高解像度ディスペンスに基づく新しいマルチヘッド非接触デジタル印刷を開発しました。この技術は、HighLine Technology GmbH として独立し、高粘度のソーラー Ag ペーストを使用して、高アスペクト比（:1）の超狭線幅（17-19μm）メタライゼーションラインをデジタル印刷することができます。この技術は、スクリーン印刷の線幅を改善し、インラインで非接触のため、特に超薄型ウェーハの破損率や不良率を低減することができます。

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Source: https://doi.org/10.1002/solr.202000475